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石墨坩堝爐內(nèi)溫度分布不均,局部過熱
發(fā)布作者:jcadmin 發(fā)布時間:2025年12月17日
石墨坩堝爐內(nèi)溫度散布不均,部分過熱
中頻爐若線圈繞制不均或坩堝放置偏疼,會導(dǎo)致部分溫度過高(溫差>100℃)。例如:坩堝一側(cè)溫度1200℃,另一側(cè)1000℃,熱膨脹差異會發(fā)生橫向應(yīng)力,導(dǎo)致側(cè)壁裂開。某銅合金廠的爐溫檢測閃現(xiàn),偏疼放置的坩堝,溫差達(dá)150℃,第7爐次就出現(xiàn)貫穿性裂紋。
高純石墨坩堝在氧化性氣氛(如空氣、水汽)中會緩慢氧化,若真空爐密封不嚴(yán)(真空度<10Pa)或維護(hù)氣體(氬氣)純度缺少(含氧量>0.1%),氧化速度會加速。氧化后的石墨強(qiáng)度下降40%,在熱應(yīng)力效果下易裂開。某廠因氬氣純度不可(含氧量 0.5%),坩堝運(yùn)用10爐次后側(cè)壁就因氧化變薄而裂開。
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